贏創和霍爾斯特中心進入合作新階段，實現iXsenic技術量産

過去兩年裏，霍爾斯特中心支持贏創優化新型半導體技術iXsenic® S的材料和工藝。如今，雙方的合作將更進一步，兩家公司延長了合約，並將爲一家主要客戶實現革命性技術的量産

在合作期內，霍爾斯特中心和贏創進一步優化了iXsenic技術。對外界而言，主要成果包括：
- 高性能液態可加工半導體iXsenic® S用於驅動聚醯亞胺襯底的柔性AMOLED顯示屏，該産品已於2014年SID國際信息顯示學會顯示周上展示。
- 與松下共同開發的8位元薄膜微處理器證明iXsenic® S也能用於印製工藝，該裝置已於今年的國際固態電路年度會議亮相。

如今，雙方的合作進入了新的階段：贏創的一家主要客戶將會向其工廠引入革命性的半導體層（iXsenic®S）材料，並與其狹縫塗布工藝相互完善搭配。霍爾斯特中心將會協助完成這一工藝，而贏創最近成立的應用技術服務中心也將提供亞洲地區的現場技術支持。

“贏創擁有世界上最好的n型液態工藝氧化物半導體。在近期的合作中，霍爾斯特中心展示了可靠的工藝水平，采用iXsenic® S於大面積塗布工藝並實現電荷載流子遷移率超過10cm²/Vs，”霍爾斯特中心有機物及氧化物晶體管項目經理Gerwin Gelinck說道。“這種最前沿的材料和工藝將會投入量産，成爲顯示器製造新時代的開端。”

“憑藉卓越的專業技術，霍爾斯特中心爲優化我們的iXsenic技術提供了有力的支持，”贏創副總裁Ralf Anselmann說道。“在下一階段的發展，霍爾斯特中心將是協助儘快實現該工藝導入量産的最好選擇。”

iXsenic® S是一種液態可加工的無機金屬氧化物半導體，可藉由狹縫塗布工藝進行使用。該産品無需真空環境，因此可實現工藝簡化、高産量和低成本優勢。應用領域包括柔性或非柔性高分辨率LCD和OLED顯示器。

如需瞭解更多信息，請訪問我們的網站www.iXsenic.com（英文）和www.iXsenic.com.cn（中文）。